미국 반도체 소프트웨어 회사 프랙틸리아가 반도체 극자외선(EUV) 노광 공정 수율 관리법을 내놓았다.
프랙틸리아는 22일 EUV 공정에서 스토캐스틱스(stochastics)를 정밀하게 측정하는 기술 ‘페임(FAME)’ 최신판을 선보였다.
스토캐스틱스는 반도체 실리콘 원판(웨이퍼) 위에 회로를 만드는 패터닝 과정에서 일어나는 오류를 뜻한다. 반복되지 않고 임의적으로 나타난다. EUV 공정에서 나오는 패터닝 오류의 절반 이상이 스토캐스틱스라고 프랙틸리아는 전했다.
프랙틸리아는 페임으로 첨단 패터닝 공정을 제어할 수 있다며 장비 수율과 패터닝 생산성을 높아진다고 강조했다. 페임은 알고리즘으로 임의적 오차를 측정해 없앤다. 이미지에 보이는 게 아니라 실제 웨이퍼에 보이는 오류를 측정한다.
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프랙틸리아는 세계 5대 반도체 칩 제조사 가운데 4개사가 이미 이 기술을 쓰고 있다고 소개했다. 삼성전자·SK하이닉스, 미국 인텔과 대만 TSMC 등이 EUV 공정으로 반도체를 생산하고 있다.
크리스 맥 프랙틸리아 최고기술책임자(CTO)는 “스토캐스틱스를 제어하면 공정 장비의 생산성을 높이면서 수율도 개선할 수 있다”며 “EUV 공정에서 스토캐스틱스는 심각한 수율 문제로 이어지고 비용을 늘리는 주범”이라고 말했다.
