주성엔지니어링(대표 황철주)은 미국 뉴욕주립대(SUNY) 올버니 나노텍 캠퍼스에 위치한 나노스케일과학·공학대(CNSE)와 뉴욕주립대 기술원(SUNYIT)에 차세대 반도체 공동개발을 위한 최첨단 장비를 공급하기로 합의했다고 발표했다.
CNSE는 나노과학·나노공학·나노생물학·나노경제학 분야 선두주자이며, SUNYIT는 공학을 비롯한 사이버보안·컴퓨터 과학·공학기술 및 비즈니스·커뮤니케이션·간호 등 분야에 학부와 학위 프로그램을 제공하고 있다. 최근 뉴욕주의 차세대 반도체 개발 주도권을 유지를 위해 앤드류 M 쿠오모 주지사가 집중 육성하는 곳이기도 하다.
이번에 공급되는 주성엔지니어링의 식각장비(모델명 Genaon Plus)는 업계 최초로 신소재 금속층을 제거하는 핵심 공정을 포함하는 장비로 반도체 칩 효율을 개선할 수 있는 것이 특징이다. 주성엔지니어링은 장비 공급과 더불어 최첨단 기술 요구 기준에 맞는 혁신적인 식각 및 봉지 기술 개발을 위해 CNSE 및 CNSE의 글로벌 파트너와 협력하기로 했다.식각장비와 함께 공급되는 싱글타입 TSD-CVD는 세계 최초로 공간과 시간분할을 동시에 할 수 있는 반도체용 증착장비다. 이는 기존 화학증착(CVD) 및 원자층증착(ALD)뿐 아니라 질화(Nitridation), 산화(Oxidation), 도핑(Doping), 금속(Metal) 전극 증착 기능 등 다양한 공정에 적용 가능한 것이 특징이다. 식각 공정이 완료된 후 폴리머 잔여물이 남지 않고 세정 간 평균시간(MTBC)이 200시간 이상이며, 표면에 플라즈마 손상까지 없다는 것이 장점이다.
황철주 주성엔지니어링 대표는 “주성이 공급하는 장비는 세계 최초로 차세대 반도체의 새로운 금속물질을 식각하는 공정에서 식각 및 증착을 위한 완벽한 솔루션을 제공한다”며 “현재 올버니 나노텍 캠퍼스에서 사용하고 있는 동급 최강의 장비 및 공정과 결합해 세계 반도체 산업의 혁신을 추진할 것”이라고 말했다.
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