25일 암모니아 누출사고가 발생한 삼성전자 반도체 화성사업장은 지난 1월과 5월 두 차례에 걸쳐 불산 누출 사고가 발생한 곳이다.
삼성전자 반도체 공장은 기흥과 화성으로 나뉘며 화성사업장에서는 D램과 낸드플래시 등 정보 저장 용도로 사용되는 메모리반도체를 주력으로 생산한다.
화성사업장에 위치한 10~13라인, 15라인에서는 주로 D램을 생산하고 있으며 지난 2011년 가동에 들어간 16라인에서는 낸드플래시를 주력으로 생산한다.
최근 공사를 재개한 17라인은 시스템반도체(시스템LSI) 전용라인으로 20나노와 14나도 최첨단 공정을 적용한 모바일 애플리케이션프로세서(AP)를 생산할 계획이다.
![](https://image.zdnet.co.kr/2013/01/28/Wui6TavWm7iHz2u8e77Q.jpg)
한편, 25일 오후 3시55분께 경기 화성시 삼성전자 반도체 화성사업장에서 암모니아가 유출되는 사고가 발생했다. 이 사고로 5명이 부상을 입고 용인 기흥사업장 내 사내병원으로 옮겨졌다.
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이 곳에서는 지난 1월에는 11라인 외부에서 불산 누출 사고가 발생해 수리작업에 참가한 협력업체 STI서비스 소속 직원 1명이 숨지고 4명이 부상을 당하는 사고가 발생하기도 했다.
5월에도 화성사업장 11라인 중앙화학물질공급장치(CCSS)에서 배관교체 작업 중 불산이 누출돼 협력사인 성도이엔지 직원 3명이 배관 밖으로 흘러나온 잔류불산에 노출돼 부상을 당했다.