"삼성-인텔-도시바, 10나노 공동개발"

삼성전자, 인텔, 도시바가 차세대 반도체 공정 제조 기술 개발을 위해 손을 잡을 것으로 보인다.

일본 니혼게이자이신문은 29일 삼성전자, 인텔, 도시바가 2016년까지 반도체 회로 선폭을 현재의 절반 이상 줄여 10나노급으로 축소하는 기술을 공동으로 개발하기로 했다고 보도했다.

삼성, 인텔, 도시바는 반도체 소재 및 관련 업계 10개 업체와 함께 곧 컨소시엄을 구성할 계획이다. 이번 기술 개발을 위해 일본 경제산업성이 50억엔을 지원한다.

삼성전자와 도시바는 이를 통해 개발된 기술을 10나노급 낸드플래시 메모리 등 활용할 예정이다. 인텔은 더 빠른 마이크로프로세서를 개발에 이용할 계획이다.

현재 삼성전자와 도시바는 낸드플래시 메모리 시장에서 전세계 1,2위를 달리고 있으며, 인텔은 전세계 최대 반도체 제조사이다.

한편 삼성전자 측은 이번 건과 관련해 조심스러운 입장을 견지했다. 삼성전자 관계자는 "보도된 건 외에 확인해 줄 수 있는 사실이 없다"고 밝혔다.