인텔 美 오하이오 팹, 일정 지연에도 건설은 지속

2025년 생산을 목표로 했던 인텔의 미국 오하이오 반도체 생산시설 건립이 2030년 이후로 늦어졌다. 인텔은 지난 해 두 팹의 건설 및 가동 일정을 각각 2030~2032년으로 조정하면서 투자 속도도 늦추기로 했다.

일정이 크게 늦어지면서 오하이오 팹의 향후 활용 방안을 둘러싼 다양한 관측도 나왔다.

최근에는 SK하이닉스가 인텔 오하이오 팹 일부를 임차하거나 합작법인을 구성해 미국 내 메모리 생산에 나설 수 있다는 로이터통신 보도도 나왔다. 그러나 SK하이닉스는 보도 당일 "확정된 사항이 없다"고 밝혔다.

한편 오하이오 현장에서는 여전히 건설 작업이 진행중이다. 시공사 벡텔은 현재도 해당 프로젝트를 '진행중'으로 분류하고 있으며 프로젝트와 관련한 현장·기술 인력 채용도 이어지고 있다.

2022년 시작된 오하이오 '메가 팹' 프로젝트

인텔은 2022년 오하이오 주 뉴앨버니 소재 약 4.04제곱킬로미터(1천에이커) 부지에 두 개의 첨단 반도체 팹을 건설하겠다고 밝혔다.

당초 인텔의 구상은 총 200억 달러(약 24조원) 가량을 투자해 1.8나노급 인텔 18A 등 초미세공정 생산 시설을 갖추고 오는 2025년부터 반도체 생산에 들어가는 것이었다.

그러나 2024년에는 미국 정부의 반도체 보조금 지급 지연 등의 영향으로 건설 일정이 연기됐다.

2025년 3월 취임한 립부 탄 인텔 CEO는 같은 해 7월 "고객사 없는 생산 역량 확충을 중단하겠다"며 "오하이오에서 진행중인 반도체 생산시설 공정도 늦출 것"이라고 설명했다.

SK하이닉스 협력설 부상... "확정된 사항 없다"

인텔의 오하이오 주 팹 완공 시점은 당초 계획 대비 상당히 지연됐다. 2025년 2월 인텔은 첫 번째 팹의 건설 완료 시점을 2030년으로, 두 번째 팹은 2031년으로 내다봤다. 당초 계획인 2025년에서 최소 6년 이상 늦어진 것이다.

로이터통신은 15일(현지시간) "SK하이닉스가 미국 내 메모리 반도체 생산을 위해 인텔과 협상을 진행중이며 인텔의 오하이오 주 부지 일부를 빌리거나 합작 법인을 설립할 가능성이 있다"고 보도했다.

SK하이닉스는 16일 "로이터가 제기한 두 가지 시나리오에 대해 결정된 사항이 없으며 특정 기업과의 협력 및 미국 내 생산과 관련하여 확정된 바가 없다"고 밝혔다.

벡텔, 오하이오 현장 인력 채용도 지속

인텔은 현재까지 오하이오 생산시설의 세부적인 공정 진척 상황은 공개하지 않은 상태다.

그러나 오하이오 프로젝트를 진행중인 미국 대형 건설사인 벡텔은 현재 공식 프로젝트 페이지에서 인텔의 오하이오 반도체 생산시설을 '진행중(Active)'으로 분류했다.

또 오하이오 프로젝트와 관련한 현장·기술 인력 채용을 이어가고 있다.

벡텔은 채용 안내 페이지에서 "전체 시설은 약 250만 제곱피트, 이 가운데 클린룸이 60만 제곱피트 규모이며, 공사 정점에는 수천 명의 건설노동자가 투입될 것으로 예상한다"고 밝혔다.

애리조나·뉴멕시코 가동... 오하이오는 '미완성'

인텔은 2022년 이후 애리조나, 뉴멕시코, 오리건, 오하이오 등에 대규모 투자를 추진했다. 애리조나에서는 팹52가 가동 단계에 들어갔고, 뉴멕시코에서는 첨단 패키징 생산시설이 운영되고 있다.

반면 오하이오 생산시설은 인텔이 최근 미국에서 추진한 대규모 신규 팹 투자 가운데 아직 생산 단계에 이르지 못한 핵심 프로젝트다.

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