자이스코리아, '세미콘 코리아'서 EUV 등 최신 반도체 솔루션 공개

EUV 포토마스크 수리 장비 등 선보일 예정

독일계 광학 전문 기업인 자이스 코리아는 오는 2월 11일부터 13일까지 서울 코엑스에서 열리는 ‘세미콘 코리아 2026’에 참가한다고 4일 밝혔다. 

자이스는 첨단 리소그래피 광학, 포토마스크 솔루션, 공정 제어 시스템, 현미경 기술 등 반도체 산업 전반에 걸쳐 혁신적인 광학 솔루션을 제공하는 글로벌 기업이다. 

이번 행사에서 자이스는 최첨단 광학 기술을 기반으로 한 리소그래피 광학 렌즈부터 포토마스크를 위한 다양한 솔루션, 정밀 검사 및 계측을 위한 최신 반도체 솔루션 등을 선보일 예정이다. 자이스 코리아는 D홀 226 부스에서 만나볼 수 있다.

(사진=자이스코리아)

자이스는 독보적인 기술력을 바탕으로 EUV 포토마스크를 위해 리뷰(AIMS EUV), 수리(MeRiT LE), 보정(Fortune EUV)에 이르는 통합 솔루션을 제공하며, 이를 통해 고객들이 EUV 포토마스크의 높은 완성도를 지속적으로 유지할 수 있도록 지원한다.

특히 이번 전시에서 가장 주목할 것은 EUV 포토마스크 수리 장비인 ‘ZEISS MeRiT LE’다. 이 제품은 EUV 선단 공정에서 발생하는 포토마스크의 결함을 정밀하게 보정하여 미세화 패턴 구현을 돕는다. 이러한 고난도 포토마스크 패턴 결함 수리 솔루션은 고객들의 생산 효율 향상에 기여하고 있다.

또한 올해도 포토마스크 보정 시스템인 ‘ZEISS Fortune EUV’ 장비를 선보인다. 이는 EUV 공정에서 웨이퍼 패턴 정렬(Overlay)을 개선해 반도체의 품질과 수율 향상에 핵심적인 역할을 한다.

자이스 부스에서는 반도체 분석과 자동화된 현미경 솔루션도 함께 확인할 수 있다. 투과 전자현미경(TEM) 시료 전처리와 분석 자동화 솔루션을 비롯해, ’ZEISS Crossbeam’ 시리즈를 통해 반도체 소자의 특정 영역을 정확하게 분석하는 기술을 소개한다. 

이미지 획득부터 분석, 후처리까지 전자 현미경의 전 과정을 지원하는’ ZEISS EM Toolkit’을 통해서는, 반도체 소재 분석 및 패키징, 공정 품질 평가 등 다양한 응용 분야에서 생산성과 정밀도를 높이는 솔루션을 제시한다. 

이번 전시에서는 한국의 반도체 장비 부품 제조사의 설비 생산공정에 활용 가능한 ‘ZEISS O-INSPECT 듀오’ 역시 만나볼 수 있다. 정밀 측정 기술과 고해상도 현미경 검사를 결합하여 하나의 장비로 측정 및 분석이 가능한 장비로, 크고 작은 부품을 모두 검사할 수 있다. PCB를 포함한 반도체 장비 부품 제조 적용 사례도 함께 공유할 예정이다.