자이스, 하반기 최신 'EUV 포토마스크' 검사 장비 국내 양산 적용

AIMS EUV 3.0, 처리 속도 향상·광학계 개선

자이스(ZEISS)는 반도체 미세화에 필수적인 자사 포토마스크 검사 장비 'AIMS EUV 3.0'가 올 하반기부터 한국에서도 양산에 활용될 예정이라고 8일 밝혔다.

AIMS는 포토마스크의 인쇄 성능을 평가하고 노광 이미징 특성을 재현하는 검사 장비다. 포토마스크는 집적회로 패턴을 실리콘 웨이퍼에 전달하는 역할을 하기 때문에 포토마스크 결함 검증은 필수적이며, 반도체 미세화에 따라 포토마스크의 정밀한 패턴 구현의 중요성도 더욱 커지고 있다.

자이스 AIMS 설비(사진=자이스)

자이스는 30여 년간 포토마스크 결함 검증을 위한 연구 개발에 매진하며 솔루션을 제공해왔다. 2017년 출시된 AIMS EUV를 통해 처음으로 심자외선(DUV) 공정을 넘어 극자외선(EUV) 공정에 맞는 솔루션을 선보였고, 현재는 AIMS EUV 3.0을 통해 최신 기술력을 제공한다.

AIMS EUV 3.0의 경우, 포토마스크 처리 성능이 AIMS EUV 1.0 대비 약 3배 향상됐다. 이 시스템은 반도체 제조사의 기술적 요구를 충족하면서도 높은 가동성과 안정적인 성능을 제공한다. 또한 개선된 광학계를 통해 조명 설정 변화도 용이하다.

AIMS EUV 3.0은 검증된 광학 설계를 기반으로 현재 양산에 적용된 Low-NA EUV 리소그래피(NA값 0.33) 뿐만 아니라 차세대 High-NA EUV 리소그래피(NA 값 0.55)에도 호환이 가능하다. 따라서 고객사의 로드맵 및 공정 변화에 유연하게 대응할 수 있어 반도체 업계가 요구하는 생산성과 경쟁력을 갖춘, 현 시점 최적화된 솔루션으로 평가된다.

클레멘스 노이엔한 자이스 글로벌 포토마스크 사업부 총괄은 “무결점 포토마스크는 반도체 생산 효율 향상과 불량 감소에 중요한 역할을 한다”며 “자이스 AIMS EUV 3.0은 마스크 결함을 신속하게 확인하고, 미세 패터닝 과정에서 발생할 수 있는 잠재적 문제를 조기에 검증, 수정할 수 있는 솔루션"이라고 밝혔다.

현재 자이스 AIMS EUV 3.0 시스템은 다수의 글로벌 반도체 제조사에서 활용되고 있으며, 올해 하반기부터 한국에서도 양산에 적용될 계획이다.