ACM, TSV 형성 장비 '울트라 ECP 3D 플랫폼' 개발

반도체ㆍ디스플레이입력 :2020/12/03 14:40    수정: 2020/12/03 14:55

ACM 리서치(이하 ACM)가 실리콘 관통전극(TSV) 형성용 장비 '울트라 ECP 3D 플랫폼'의 개발을 완료하고, 이를 중국 고객사에 공급했다고 3일 밝혔다.

울트라 ECP 3D 플랫폼은 12인치용 TSV 형성용 장비다. 사전 습식 및 구리 도금, 후세정 기능이 하나로 통합된 것이 특징이다.

ACM 리서치가 개발한 TSV 형성용 장비 '울트라 ECP 3D'. (사진=ACM)

ACM 측은 "최근 전자 기기의 소형화 트렌드로 인해 3D TSV 시장이 성장하고 있다"며 "ACM의 장비는 적층 챔버 설계로 더 높은 처리속도를 제공하는 동시에 더 적은 소모품을 사용해 총 소유 비용을 낮출 수 있고, 팹 공간 활용도도 높일 수 있도록 설계됐다"고 강조했다.

한편, 시장조사업체 모도 인텔리전스에 따르면 TSV 장비 시장은 지난해 28억달러에서 오는 2025년에 40억달러(약 4조3천900억원)로 크게 늘어날 전망이다.

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