삼성전자는 이재용 삼성전자 부회장이 20일 화성사업장을 찾아 올해 2월부터 본격 가동을 시작한 극자외선(EUV) 전용 반도체 생산라인을 직접 살펴보고 임직원들을 격려했다고 밝혔다.
이 부회장이 방문한 'V1 라인'은 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인으로 최근 본격적으로 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했으며, 앞으로 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 계획이다.
이 부회장은 "지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고, 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 꿰었다"며 "이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자"고 말했다.
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EUV 노광기술은 파장이 짧은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 불화아르곤(ArF)을 이용한 기존 기술보다 세밀한 회로 구현이 가능해 고성능·저전력 반도체를 만드는데 필수적이다.
한편, 삼성전자는 지난해 반도체 비전 2030을 발표하고 시스템반도체에 133조원 투자 및 1만 5천명 채용, 생태계 육성 지원방안 등을 밝힌 바 있다.