반도체·디스플레이 장비 제조사인 어플라이드머티리얼즈는 10나노미터 이하 미세공정에서 멀티플 패터닝 스케일링을 지원하는 차세대 광학 리소그래피 포토마스크 식각 장비 ‘센츄라 테트라Z’를 21일 선보였다.
이 장비는 로직과 메모리 디바이스를 위해 패터닝 사양을 충족시키는데 필요한 포토마스크 임계치수(CD) 변수(parameters)에 옹스트롬 레벨(angstrom-level)의 정확성을 제공, 기존에 사용해오던 테트라 플랫폼 기능 확장을 제공한다.
크롬, MoSi, 하드마스크, 바이너리, 위상반전마스크 제작 등에 사용하는 석영(Fused Silica) 식각 애플리케이션을 위한 스펙을 갖춰 4중 패터닝과 최첨단 해상도 향상을 위한 이머전 리소그래피 확장을 지원한다.
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또 패턴 전사(Transfer) 충실도를 보장하기 위한 필수 성능을 통해 크기에 관계 없이 피처(Feature)를 균일하고 직선으로 정밀하게 식각하는 기능을 제공, 사실상 무결점에 가까운 패턴 밀도를 제공한다고 제조사 측은 밝혔다.
라오 야라만치리 어플라이드머티리얼즈 마스크 식각 장비 부서 총괄 책임자는 “테트라 Z는 193나노 리소그래피의 사용을 넓히기 위해 정밀재료공학 및 플라즈마 반응 속도론의 발전을 이용하는 최첨단 포토마스크 식각 기술”이라며 “193나노 파장을 사용하여 10나노 또는 7나노 패턴을 생산하기 위해서는 포토마스크에 의존도가 높은 이머전과 멀티플 패터닝을 포함하는 최적의 기술을 필요로 한다”고 말했다.
