SK하이닉스 "올해 설비투자 3.56조 이상"

일반입력 :2014/01/28 09:28    수정: 2014/01/28 10:06

정현정 기자

SK하이닉스가 올해 최대 4조원 수준의 설비투자(CAPEX)를 단행하겠다는 계획을 밝혔다.

김준호 SK하이닉스 코퍼레이트센터장(사장)은 28일 4분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 노후화된 이천 공장 현대화를 위한 신규 클린룸 건설로 인해 올해 투자비용은 지난해보다 다소 증가할 것으로 보인다고 밝혔다.SK하이닉스는 지난해 중국 우시공장 복구비용 약 5천억원을 포함해 총 3조5천600억원의 규모의 투자를 단행했다.

앞서 SK하이닉스가 경기도 이천에 가동 중인 D램 반도체 라인 신축을 결정하고 2015년까지 최첨단 시설을 갖춘 신규 공장과 클린룸 시설을 구축하는 것을 골자로 1조8천억원 규모의 투자 계획을 확정했다.

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김 사장은 신규 팹 구축과 관련한 투자 비용은 올해 7천~8천억원 정도가 될 것으로 보고 있다면서 이를 포함한 총 설비투자 비용은 최대 4조원 수준이 될 것이라고 말했다.

투자 비중은 D램이 70%로 더 높을 전망이다. 김 사장은 지난해 D램에 60%, 낸드플래시에 40% 비중으로 투자했다며 올해는 이천 클린룸 건설 등으로 D램에 70%, 낸드플래시에 30% 비중이 투입될 계획이라고 밝혔다.