매그나칩반도체(대표 박상호)가 대만 팹리스 기업인 이메모리와 네오빗 원타임프로그래머블(OTP) 0.11um 고전압 내장형 비휘발성 메모리반도체 제조공정 기술을 공동 개발했다고 10일 발표했다.
이메모리로부터 제품 생산을 위탁 받은 매그나칩반도체(이하 매그나칩)는 이번달부터 제품을 본격 양산할 예정이다.
0.11um 고전압 내장형 비휘발성 메모리 공정은 LCD 드라이버 IC, 전력 제어 IC 제조 공정이다.
이 기술을 적용해 중소형 TFT-LCD 패널, 모바일 기기, LED 조명 등 다양한 형태의 소비재 제품을 제조하면 제품 생산기간 단축, 생산효율 증대 효과를 동시에 누릴 수 있다.
특히 이 기술은 이메모리가 보유한 핵심 기술 중 하나다. 추가적인 마스크 비용 또는 별도 디바이스 변경 없이 기존 공정기술, 상호 호환이 가능해 디자인 통합을 쉽게 할 수 있다.
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지금까지 매그나칩과 이메모리는 전략적 협력관계 아래 0.35~0.13um 로직, 아날로그, 고전압 공정기술을 차례로 개발했다. 양사는 향후 기존 공정기술 개선뿐 아니라 신규 공정기술 개발에도 협력을 강화할 계획이다.
2000년 설립된 대만 팹리스 기업인 이메모리는 OTP, MTP, 플래시 등 로직 내장형 비휘발성 메모리 개발업체다.