'반도체 핵심 기술' 해외 빼돌린 삼성 임직원 기소

반도체 첨단 기술을 불법 취득해 국외에 유출한 삼성 전·현직원 등 연구원 10명이 재판에 넘겨졌다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)는 국내 반도체 관련 산업기술 등의 국외 유출 사건 2건을 수사해 핵심기술을 유출한 연구원 등 7명을 구속기소하고 3명을 불구소기소했다고 27일 밝혔다.

삼성전자 내 반도체 파운드리팀 연구원 A씨는 인텔로 핵심 기술이 담긴 파일을 유출해 구속기소됐다. A씨는 인텔의 PDK(Process Design Kit) 분야로 이직하기 위해 반도체 회로 동작을 계산하는 소프트웨어(SPICE) 모델링 자료 등 핵심기술 33개 파일을 재택근무 중에 촬영해 유출했다.

검찰은 지난 4월 삼성전자로부터 고소장을 접수한 뒤 수사에 착수했다. 6~10월 사이 A씨 주거지 등에 대한 압수수색과 관련자 조사를 진행한 뒤 지난 25일 A씨를 구속기소 했다.

검찰은 '반도체 초순수시스템' 기술 국외 유출 사건과 관련해서도 연구원과 엔지니어, 회사법인 포함 9명을 재판에 넘겼다.

초순수는 물속 이온, 유기물 등 각종 불순물을 0.1ppt(10조분의 1)~1ppb(10억분의 1) 단위 이하까지 제거한 순수에 가까운 물이다. 반도체 공정에 필요한 각종 세정작업에 쓰이는데, 물에 불순물이 있으면 불량이 생기기 때문에 초순수의 안정적 공급이 반도체 수율에 영향을 미친다. 이 기술은 그동안 일본에 의존해 왔으나, 삼성엔지니어링이 2006년부터 매년 300억원 이상 연구개발비를 들여 초순수시스템을 구축하는 데 성공했다.

삼성 반도체 연구원 B씨와 C씨는 2018년 중국 반도체 컨설팅 업체로 이직을 준비하면서 삼성엔지니어링 직원들로부터 초순수 시스템 운전매뉴얼과 설계도면 등 핵심 기술 자료를 받아 유출했다. 이들에겐 부정경쟁방지법 위반 혐의 등이 적용됐으며 구속기소됐다.

또 삼성 반도체 연구원에게 초순수 시스템 운전매뉴얼 기술을 넘긴 삼성엔지니어링 연구원 D, E씨 2명도 구속기소됐다. D씨는 2019년 2월 해당 기술을 빼내 중국 업체로 이직한 것으로 조사됐다.