독일의 세계적인 화학 기업인 머크가 차세대 반도체 소자 개발을 위해 한국에 첨단 기술센터를 연다.
30일 머크는 이날 경기 평택 송탄산업단지에 첨단 기술센터인 'K-ATeC'을 개소하고, 웨이퍼(반도체 원재료) 평탄화 공정에 사용되는 CMP 신소재 개발에 나설 계획이라고 밝혔다.
K-ATeC은 3천240제곱미터(㎡) 규모 면적에 총 5층으로 준공됐다. 고객평가를 위한 샘플링 랩부터 CMP 소재 설계 및 분석을 위한 리서치 랩, 12인치 CMP 웨이퍼 연마 시스템 및 웨이퍼 결함 검사 장비 등을 갖춘 클리룸으로 구성됐다.
머크는 K-ATeC에 대한 투자와 더불어 CMP 신소재의 테스팅 및 반도체용 소재 공급에 주력할 계획이다.
아난드 남비아 머크 반도체 소재 사업부문 글로벌 대표는 "한국은 머크에게 중요한 혁신 및 생산 허브로, 머크는 기술센터 완공 및 역량 확장을 위해 350억원 이상을 투자했다"며 "앞으로도 공급망을 확장하고 발전된 기술을 개발하기 위한 노력을 지속할 것이다. 동시에 경제발전 및 성장에 적극 기여하는 것은 물론 고객들과 상생의 파트너십을 다져나갈 것"이라고 강조했다.
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☞용어설명 : CMP(Chemical Mechanical Polishing·화학적 기계적 연마)
CMP란 반도체 원재료인 웨이퍼에 안정적으로 재료층을 쌓기 위해 울퉁불퉁한 면(슬러리)을 연마액과 함께 폴리싱(연마 작업)하는 평탄화 공정을 뜻한다.
