삼성電, 작년 시설투자 26.9조 집행…반도체 22.6조

삼성전자는 지난해 시설투자에 26조9천억원을 집행했다고 30일 밝혔다.

각 사업별로는 반도체 부문에 22조6천억원, 디스플레이 부문에 2조2천억원을 투자했다.

반도체는 메모리의 경우 지난해 공정 전환에 집중하면서 투자가 감소됐고, 파운드리는 EUV 7나노 등 미세 공정을 적용하기 위한 설비 증설로 투자가 늘었다.

디스플레이의 경우 2018년 대비 중소형 A4라인 투자가 끝나 투자가 감소했다. 올해 투자는 수요 변동 상황에 맞춰 탄력적으로 대응할 계획이다.

4일 삼성전자 서초사옥에서 열린 '삼성 AI 포럼 2019'에서 김기남 부회장이 개회사를 하고 있다.(사진=삼성전자)

삼성전자 측은 "메모리의 경우 중장기 수요 대응을 위한 인프라 투자는 지속하고, 설비투자는 시황 회복 추이에 맞춰 대응할 방침"이라며 "더불어 시스템반도체와 디스플레이, AI, 5G와 같은 미래 성장 사업의 중장기 경쟁력 강화를 위한 투자는 계획대로 진행할 예정"이라고 전했다.