동진쎄미켐 '탈일본' 돌입...포토레지스트 공장 증설

올해 1분기 중 착공 시작, 내년 초부터 생산량 두 배 이상 늘어

동진쎄미켐이 올해 1분기 중에 국내 포토레지스트 공장에 대한 증설에 나선다. 정상 가동 시점은 내년 초부터로 국내 포토레지스트 생산량이 2배 이상 늘어날 전망이다.

15일 산업통상자원부에 따르면 이날 정승일 산업부 차관은 경기 화성에 위치한 동진쎄미켐 공장을 방문해 포토레지스트 생산현황을 점검하고, 일본의 수출규제 조치에 대응하기 위해 다양한 의견을 수렴할 예정이다.

정승일 산업부 차관은 이번 현장 방문과 관련해 "지난해 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력해 온 결과, 포토레지스트를 포함해 3대 품목 등 핵심소재의 공급안정성이 확보되어 가고 있다"며 "올해 1분기 내 동진쎄미켐의 생산공장 증설 착공 등으로 포토레지스트의 국내 공급 안정성이 한층 더 강화될 것으로 기대한다"고 전했다.

또 "올해를 미래 10년을 만들어가는 소부장 산업 경쟁력 확보의 원년으로 삼겠다"며 "대외여건 변화와 관계없이 소부장 경쟁력 강화정책을 지속적이고 일관적으로 추진해 나가겠다"고 강조했다.

반도체와 디스플레이의 원재료로 사용되는 '실리콘 웨이퍼'. (사진=씨넷)

포토레지스트는 반도체와 디스플레이를 제조하는 과정에서 기판(웨이퍼) 위에 전자회로 패턴을 형성하기 위해 사용되는 액체 형태의 화학물질을 말한다. 이는 반응하는 빛의 파장에 따라 불화크립톤(Krypton Fluoride·248nm), 불화아르곤(Argon Fluoride·193nm), 극자외선(Extreme Ultra Violet·13.5nm)용 등으로 구분된다. 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 공정 미세화에 도움을 준다.

그간 정부는 지난해 일본이 단행한 수출규제 조치 이후, 국내 기업들과 협력해 대일 의존도가 높았던 포토레지스트의 국산화를 위해 다양한 노력을 펼쳐왔다.

예컨대 벨기에(RMQC), 미국(듀폰), 독일(머크) 등으로 수입국을 다변화하고, 듀폰이 충남 천안에 극자외선용 포토레지스트 개발 및 생산을 위한 시설 투자(2020~2021년, 2천800만달러 규모)에 나서도록 적극적인 투자유치 활동을 펼쳤다. 그 결과 포토레지스트 대일 수입의존도를 지난해 상반기 92%에서 하반기 85%까지 줄이는 데 성공했다.

이번에 증설 투자를 결정한 동진쎄미켐은 불화아르곤 액침(ArF immersionr) 파장에 반응하는 포토레지스트를 2010년에 국내 최초로 개발·생산한 반도체·디스플레이 소재 전문기업이다.

동진쎄미켐은 올해 1분기 중에 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF) 등의 파장에서 반등하는 포토레지스트 생산공장 증설을 착공할 예정이며, 이 공장이 내년 초부터 정상 가동에 돌입하면 국내 포토레지스트 생산량은 현재보다 2배 이상 늘어날 전망이다.

이준혁 동진쎄미켐 대표는 "생산공장 증설이 신속하게 착수될 수 있었던 것은 정부의 대규모 R&D(연구·개발) 투자, 공장증설용 토지에 대한 신속한 용도변경 등 범정부적 지원이 있었기 때문에 가능했다"고 전했다.