오해순 SK하이닉스 부사장 "D램 이어 올해 낸드 업턴 원년 만들 것"

SK하이닉스 최초 여성 연구위원인 오해순 부사장 인터뷰

"지난해 D램에 이어, 올해는 낸드가 업턴으로 전환될 차례다. 이에 맞춰 적층의 한계를 극복할 요소 기술 확보, 차세대 제품의 적기 개발을 최우선 과제로 삼을 것이다."

29일 오해순 SK하이닉스 부사장은 회사 공식 뉴스룸과 진행한 인터뷰를 통해 이같이 밝혔다.

오 부사장은 지난해 말 진행된 2024년 신임임원 인사에서 SK하이닉스 최초의 여성 연구위원으로 이름을 올린 인물이다. SK하이닉스 연구위원은 뛰어난 기술 역량을 바탕으로 혁신 기술 연구에 집중하는 전문 임원에 해당한다.

오해순 SK하이닉스 부사장(사진=SK하이닉스)

오 부사장은 낸드플래시와 솔루션 사업 경쟁력 강화를 위해 신설된 조직인 ‘N-S Committee’의 연구위원으로 발탁됐다. 그는 미래기술연구원과 D램 개발부문을 거친 후, 2007년부터 차세대 낸드 플랫폼 개발에 매진해 왔다. 특히 SK하이닉스 최초의 3D 낸드 기술과 QLC 제품 개발, 4D 낸드 양산 등에 기여했다.

오 부사장은 "연구 역량 자체에 남녀 간의 차이가 있다고 생각하지는 않지만, 구성원들의 다양한 관점이 어우러져 발전하는 기술 연구 분야에 여성 리더로서 저만이 할 수 있는 역할이 있다고 생각한다"며 "저를 시작으로 앞으로 더 많은 여성 연구위원이 탄생할 수 있도록 소임을 다하겠다"고 밝혔다.

오 부사장은 현재 'Advanced PI' 조직을 이끌며 차세대 고부가가치 낸드 제품 개발에 힘쓰고 있다. 특히 개발부터 양산까지의 모든 과정에서 시행착오를 줄일 수 있도록 양산 성공에 초점을 맞춘 연구에 집중하고 있다. 양산 경쟁력이 곧 제품 경쟁력으로 이어지는 낸드 특성상, 이는 매우 중요한 미션이다.

이와 관련 오 부사장은 개발 단계에서부터 미리 양산 불량을 관리하는 ODE(On Die Epm) 시스템을 낸드 최초로 도입한 바 있다. 현재 이 시스템은 품질 특성 관리와 제품 불량 제어 등에 활발히 이용되고 있다.

그는 이처럼 장기간 다져온 기술력을 바탕으로 올해 낸드도 반등이 본격화 될 것으로 내다봤다.

오 부사장은 “D램은 이미 지난해 업턴으로 전환했다. 올해는 낸드 차례"라며 "적층 한계를 극복할 요소 기술 확보와 차세대 고부가가치 제품 적기 개발 등이 올해의 중요한 미션이다. 무엇보다 수익성 제고를 위해 개발 단계에서부터 시행착오를 줄일 수 있는 연구를 이어 나갈 계획"이라고 말했다.

끝으로 오 부사장은 “N-S Committee 조직 안에서 낸드와 솔루션의 다양한 협업을 진행할 예정"이라며 "솔루션 사업부와 뜻을 모아 적극적으로 소통하고 협력해 시너지를 만들고, 이를 바탕으로 나아가 2024년을 낸드 사업 도약의 원년으로 만들 수 있도록 솔선수범하겠다"고 포부를 밝혔다.