미국 반도체 장비 회사 어플라이드머티어리얼즈(AMAT)는 2일 패터닝 장비 신제품 ‘센튜라 스컬프타(Centrua Sculpta)’를 선보였다.
AMAT는 비용이나 재료, 에너지를 더 쓰지 않고도 반도체 제조사가 설계를 축소할 수 있도록 고객사와 협력해 이를 개발했다고 설명했다.
반도체 제조사는 싱글 극자외선(EUV) 패턴을 프린팅한 다음 스컬프타 장비로 패턴 형태를 원하는 방향으로 길게 늘려 소자 간 간격을 줄이고 패턴 밀도를 높일 수 있다. 최종 패턴은 싱글 마스크로부터 생성되기 때문에 설계 비용이 줄고 덜 복잡하며 더블 패터닝 정렬 오류 탓에 수율이 떨어질 가능성도 없다고 AMAT는 소개했다.
반도체 제조사가 스컬프타 장비를 쓰면 ▲10만 WSPM(Wafer Starts Per Month) 생산능력당 2억5천만 달러 절감 ▲웨이퍼당 50달러 이상 생산 비용 절감 ▲웨이퍼당 15kWh 이상 에너지 절약 ▲웨이퍼당 0.35kg 이상 온실가스 배출량 감축 ▲웨이퍼당 15리터 이상 용수 절약 효과를 볼 수 있다고 AMAT는 강조했다.
프라부 라자 AMAT 수석부사장은 “스컬프타 장비의 패터닝 형성 기술은 AMAT의 리본 빔(ribbon-beam)과 재료 식각 기술을 결합한 혁신”이라고 말했다.
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라이언 러셀 인텔 부사장은 “인텔은 공정 설계부터 AMAT와 협력하고 있다”며 “스컬프타 장비로 설계·제조 비용을 아끼고 공정 시간을 줄이면서 환경도 보호할 것”이라고 나섰다.
박종철 삼성전자 파운드리사업부 식각기술팀 마스터는 “패터닝 한계를 극복하려면 팁 간격 조절, 패턴 브릿지 결함, 라인 에지 러프니스(roughness) 과제를 해결해야 한다”며 “스컬프타 장비가 이 문제를 극복하고 생산 비용을 줄이는 데 도움 될 것”이라고 기대했다.