머크, 반도체 포토레지스트 제거 친환경 용매 출시

턴키 솔루션과 총소유비용 개선…습식화학 시장 영향 전망

한국머크(대표 김우규)는 반도체 제조에서 포토리소그래피 공정에 사용하는 친환경 용매 ‘AZ® 910 리무버’를 출시했다고 23일 밝혔다.

AZ® 910 리무버는 인체에 해로운 NMP를 사용하지 않으면서도 패터닝된 포토레지스트를 빠르게 용해할 수 있게 설계됐다.

머크 반도체 소재 사업부 대표인 아난드 남비아는 “머크는 차세대 반도체 구현에 핵심적인 세정에 더 높은 요구를 가진 고객을 지원하기 위해 혁신적이고 비용 효율적인 솔루션을 개발했다”며 “AZ® 910 리무버는 포토레지스트 전체 부피에 3배 미만의 용액으로도 포토레지스트를 제거할 수 있어서 고객사 비용을 절감하는 동시에 이 소재가 폐수로 흘러 들어가며 발생하는 환경발자국을 줄여준다”고 설명했다.

남비아 대표는 “지속가능성은 머크 기업 전략의 필수 요소”라며 “머크는 고객사에 장기적인 가치를 창출하면서도 환경 측면의 요구를 만족시키는 제품과 기술개발에 전념하고 있다”고 강조했다.

반도체 제조시설은 네거티브 톤 포토레지스트를 사용하는데, 네거티브 톤 포토레지스트는 포토공정에 레지스트를 더 적합하게 만들기 위해 가교 반응과 같은 화학반응을 거친다. 그러나 가교된 레지스트는 용해와 제거가 어려워 기업과 환경 모두에 영향을 준다.

머크는 미세전자기계시스템(MEMS), 자동차, 전력 IC, 웨이퍼 단계 패키징 디바이스 시장을 타깃으로 하는 AZ® 910 리무버 포트폴리오는 복잡하고 비싼 NMP 기반 화학구조를 대체할 솔루션을 제공한다고 전했다.

AZ® 910 리무버는 네거티브와 포지티브 톤 포토레지스트를 웨이퍼 표면에서 들어 올려 제거하는 형식의 NMP 기반 제품과 차별화했다. 네거티브와 포지티브 톤 포토레지스트를 모두 용해해 제거하는 방식을 채택해 제거 공정에 걸리는 시간을 절반으로 줄이고 화학구조와 필터 수명이 연장돼 제조사가 고도화된 프로세서에 필요한 고가 제거액에 투자를 하지 않아도 되기 때문에 총소유비용을 낮출 수 있다.

남비아 대표는 “제품이 가진 독보적인 용해 성능은 제조비용을 줄이고 생산처리를 개선하고자 하는 고객사에 큰 이점을 안겨줄 것”이라며 “제품이 가지는 순수한 친환경 화학구조는 제조시설의 환경발자국을 개선해 고객이 습식화학 공정을 단순화할 수 있게 해 준다”고 설명했다.

남비아 대표는 AZ® 910 리무버 1갤런으로 네거티브 톤 레지스트가 커버리지의 80%를 차지하는 8인치 웨이퍼 250개 이상을 세정할 수 있다“고 덧붙였다.