SK하이닉스, 중국 우시 확장 팹 ‘C2F’ 준공

클린룸 일부 공사 완료 후 D램 생산 시작…추후 투자는 시기 고려해 결정

SK하이닉스가 중국 우시에서 C2의 확장 팹 C2F의 준공식을 개최하고, D램 생산을 시작했다.

18일 SK하이닉스(대표 이석희)는 리샤오민 우시시 서기, 궈위엔창 강소성 부성장, 최영삼 상하이 총영사, 이석희 SK하이닉스 대표이사(사장) 등 약 500명이 참석한 가운데 중국 우시에서 ‘C2F 준공식’을 개최했다고 밝혔다.

C2F는 기존 중국 우시 생산라인인 C2의 확장 팹(FAB)이다. 규모는 5만8천제곱미터(1만7천500평)에 달한다.

이석희 SK하이닉스 대표이사(사장)가 18일 중국 우시에서 열린 SK하이닉스 중국 우시 확장 팹 ‘C2F 준공식’에서 환영사를 하고 있다. (사진=SK하이닉스)

SK하이닉스는 최근 C2F의 일부 클린룸 공사를 완료하고 장비를 입고해 D램 생산을 시작했다. 앞으로 시장 상황을 고려해 추가적인 클린룸 공사 및 장비입고 시기를 결정하겠다는 방침이다.

강영수 SK하이닉스 우시 FAB 담당 전무는 “C2F 준공을 통해 우시 팹의 중장기 경쟁력을 확보하게 됐다”며 “C2F는 기존 C2 공장과 원 팹으로 운영함으로써 우시 팹의 생산·운영 효율을 극대화할 것”이라고 전했다.

한편, SK하이닉스는 2004년 중국 장쑤성 우시시와 현지공장 설립을 위한 계약을 체결하고, 2006년 C2를 완공해 중국에서 D램 생산을 시작했다.