이석희 SK하이닉스 “올해 본원적 경쟁력 강화에 방점”

‘메모리 미세화 및 원가절감·고객 대응력 강화’ 등 적극 추진

“올해 SK하이닉스는 본원적 경쟁력 강화를 위해 노력하겠다. 메모리 반도체 원가 절감에 힘쓰고 차세대 제품의 순조로운 양산전개에 노력하겠다. 또 공유 인프라에 기반한 사업모델 확대, 지속경영 전략 체계 실행, 구성원 참여를 통해 사회적 가치의 결실을 가시화겠다.”

이석희 SK하이닉스 대표이사(사장)는 22일 경기 이천 SK하이닉스 본사에서 열린 ‘제71기 정기 주주총회’에서 올해의 사업전략을 이 같이 강조했다. 이날 정기 주총에서는 ▲2018년 재무제표 승인 ▲이사 보수한도(120억원) ▲사내이사(오종훈 SK하이닉스 GSM담당 부사장) 선임 ▲사외이사(하영구 김앤장 법률사무소 고문) 선임 ▲주식매수선택권 부여 등의 안건이 의결됐다.

이석희 SK하이닉스 사장은 주총에서 “지난해 무역분쟁과 금리인상, 신흥국 경기하락으로 세계 경제에 대한 불확실성이 높았지만, 데이터센터향 투자확대가 지속되고 모바일과 PC의 고사양화로 인해 메모리 반도체 산업은 호황을 이어갔다”며 “SK하이닉스는 급증하는 수요 확대에 적극 대응했고, 이에 매출 40조4천억원·영업이익 20조8천억원의 역대 최대 연간 실적을 달성할 수 있었다”고 지난해 성과를 회고했다.

이석희 SK하이닉스 대표이사(사장)이 22일 이천 SK하이닉스 본사에서 열린 정기 주주총회에서 올해 사업전략을 소개하고 있다. (사진=지디넷코리아)

이어 올해 성과에 대해서는 “(지난해) 청주 M15 공장 건설을 완료하고, D램 생산의 절반 가까이 차지하는 중국 우시 공장의 확장 건설도 마무리해 경쟁력 있는 제품으로 미래 수요에 대응할 수 있는 기반을 마련했다”며 “2020년 하반기 완공 예정인 이천 M16 공장은 차세대 노광장비인 EUV 전용 공간이 별도로 조성되는 등 최첨단 반도체 공장으로 SK하이닉스의 미래 성장 기반이 될 것”이라고 자신감을 내비쳤다.

SK하이닉스는 올해의 사업전략으로 ▲기술혁신과 생산효율에 따른 원가절감 ▲고객 대응력 강화 ▲더블 바텀 라인 추구 본격화(사회적 가치와 재무적 가치 동시 추구) 등을 제시했다. 핵심 제품인 메모리 반도체(D램, 낸드플래시)의 경쟁력 강화를 위해 10나노미터(nm·10억분의 1미터) 중반의 미세공정 기술을 적극 활용하고, 주요 생산기지의 램프업(생산량 증대) 향상을 통해 원가 절감에 집중할 방침이다.

이 사장은 “SK하이닉스는 올해 원가절감에 집중하고, 고객 대응력을 높이는 한편, 더블 바텀 라인 추구를 본격하겠다”며 “메모리 반도체 기술의 핵심 경쟁력인 미세화와 수율 램프업 속도 향상을 통해 원가 절감에 힘쓰겠다. (지난해) 차세대 제품인 D램 1y(10나노미터 중반) 제품과 96단 낸드 제품의 순조로운 양산전개에 노력했다. (올해) 원가개선을 위한 로드맵을 수립하고 생산성 향상과 개발효율 목표까지 연계시킨 원가 혁신 시스템의 본격적인 활용을 통해 투자효율과 원가경쟁력을 개선할 계획”이라고 강조했다.

이어 “SK하이닉스는 기술 기반의 기업으로 기술이 곧 핵심"이라며 “(기술에 기반한) 본원적 경쟁력을 높이는데 박차를 가하고 있고, 핵심 고객들의 상품 전략을 면밀히 살펴 사업 안정성 및 미래 제품 준비에도 최선을 다하겠다”며 “특히 사회적 가치와 재무적 가치를 동시에 추구하기 위해 반도체 생태계와 지역 사회를 중심으로 여러 활동을 계획하고 있다. 공유 인프라에 기반한 사업모델 확대, 지속경영 전략 체계 실행, 구성원 참여를 통해 사회적 가치의 결실을 가시화겠다”고 덧붙였다.

한편, SK하이닉스는 이날 주총에서 용인 반도체 특화 클러스터 조성과 관련해 정부의 원안 수용에 기대감도 전했다.

이 사장은 “SK하이닉스가 20년간 생존하기 위해서는 부지가 간절히 필요하다. M16 건설이 끝나면 여유부지가 없다”고 “용인 반도체 클러스터 조성 계획이 원안대로 잘되기를 기대한다”고 말했다.