인텔 "10나노 가동률, 14나노보다 50% 향상"

인텔이 오는 2016년 양산 예정인 10나노 시험 생산 라인의 가동률이 14나노 생산라인보다 50% 더 향상됐다고 밝혀 주목된다.

23일(현지시간) 디지털트렌즈, 피씨월드 등 외신들은 미국 샌프란시스코에서 열린 국제고체회로학회(ISSCC, International Solid-State Circuits Conference)에 참가한 마크 보어 인텔 반도체 선임 연구원이 현재 시범 운영중인 10나노 생산라인이 14나노 라인보다 50% 더 빠른 가동률을 보이고 있다고 언급했다고 보도했다.

보어 연구원은 무어의 법칙(프로세서의 집적도가 2년마다 2배로 증가)은 미세공정인 10나노와 7나노에서도 계속 적용될 수 있을 것이라며 오는 2016년에는 10나노, 2018년까지는 7나노 공정 한계 문제를 해결해 프로세서를 생산할 계획이라고 말했다.

그는 또 10나노 기술을 넘어 7나노 제조로 가는 것은 극자외선 레이저 장비(EUV)와 같은 아직 보편화되지 않은 비싼 비용을 들이지 않고도 달성할 수 있다고 생각한다고 말해 주목됐다.

EUV는 반도체 미세공정을 실현시킬 수 있는 방법으로 주목된 신노광기술이지만 높은 생산비용과 양산성 확신에 대한 부족으로 아직까지 본격적인 반도체 양산에는 적용되지 않고 있다.