日히타치화성, 케이씨텍 특허침해 제소

일본의 히타치화성공업주식회사가 국내 반도체 장비업체인 케이씨텍에 대해 미국 텍사스주 오스틴 서부지방법원에 특허소송을 제기한다고 15일 밝혔다.

히타치화성은 케이씨텍이 화학기계적 연마의 산화세륨 슬러리(이하 CMP슬러리)와 관련 미국 특허 2건을 침해했다고 주장했다.

히타치화성은 지난해 6월부터 특허 문제해결을 위해 케이씨텍과 협의를 진행해 왔지만 합의점을 찾지 못했다고 설명했다.

CMP슬러리는 반도체 평탄화 공정에 사용되는 연마제다. 화학적 연마와 기계적 연마를 동시에 수행해 웨이퍼의 평탄도를 높이고 공정 시간을 줄일 수 있다.