공작기계, 산업용 로봇 제조 및 정보통신장비 전문기업 스맥은 반도체 웨이퍼 시편 자동 폴리싱 및 클리닝 장치 관련 특허를 취득했다고 22일 밝혔다.
이번에 특허 취득한 스맥의 웨이퍼 칩 폴리싱 및 클리닝 장치는 화학적 연마제 없이 반도체 웨이퍼의 시편을 폴리싱해 친환경적이며, 폴리싱 및 클리닝 장치가 듀얼 타입으로 장착돼 생산량을 증대시킨다. 기존 장치는 싱글로 화학적 연마제를 사용해 폴리싱 및 클리닝이 개별적으로 이루어졌으며 환경 오염 문제를 발생시키는 문제가 있었다.
하나의 장비 내에서 폴리싱 및 클리닝, 건조 작업을 통합적이고 연속적으로 작업도 가능하다. 웨이퍼 칩을 안정적으로 플레이트에 고정 및 회전시켜 웨이퍼 칩 시편의 검사 부위를 균일하고 정밀하게 처리가 가능해졌다.
스맥은 다년간의 R&D 투자에 대한 결실로 반도체 시장에 특화된 공작기계 라인업을 이미 확대했다. 공작기계에서 더 나아가 반도체 폴리싱 장비 특허 취득으로 급격하게 성장하고 있는 국내를 비롯한 해외 반도체 장비 시장에 여러 전용장비 공급을 강화해 실적 성장세를 가속화할 계획이다.
관련기사
- 스맥-헥사곤, 항공·방산·반도체 진출 협력2024.04.02
- 삼성전자 반도체 수장 전격 교체...위기 돌파하고 '초격차' 고삐 죈다2024.05.21
- 사피온 AI반도체 'X330' 슈퍼마이크로 서버 적격성 평가 완료2024.05.21
- 네패스, AI 반도체용 패키징 기술 'PoP' 상용화 추진2024.05.20
스맥 관계자는 “스맥의 반도체 웨이퍼 장비는 여러 개의 시편 공정 작업을 동시에 할 수 있어 고객 맞춤형 폴리싱 및 클리닝 작업이 가능해 시장에서 각광받고 있다”며 “일련의 작업 자동화로 반도체 생산 증가에 유연하게 대응이 가능해 품질 분석 장비 투자 확대에 따른 매출 향상에 큰 기여를 할 것”이라고 말했다.
한편 스맥은 공작기계, ICT사업부, 로봇 등 총 62건의 특허를 확보 했으며 반도체 장비 분야에도 지속적으로 투자하여 독자기술 영역을 더욱 강화하고 있다.