삼성電 3Q 시설투자 12.7조원...반도체에 11.5조원

3분기 누계 33조원, 올 연간 규모는 54조원 전망

삼성전자가 27일 실적발표에서 올 3분기 집행한 시설투자는 12조7천억원이라고 밝혔다.

사업별로는 반도체(DS) 11조5천억원, 디스플레이(SDC) 5천억원 수준이다. 3분기 누계로는 33조원을 집행했다. 반도체가 29조1천억원, 디스플레이가 2조1천억원이다.

삼성전자의 올해 연간 시설 투자는 약 54조원 수준으로 예상된다. 반도체가 47조7천억원, 디스플레이가 3조원 수준이다.

삼성전자 평택캠퍼스 전경(사진=삼성전자)

사업별로 보면 메모리의 경우, 평택 3·4기 인프라와 중장기 시장경쟁력 강화를 위한 극자외선(EUV) 등 첨단 기술 중심 투자가 예상된다.

파운드리는 '쉘 퍼스트(shell First)' 전략으로 수요에 신속히 대응한다는 방침이다. EUV 첨단 공정 수요 대응을 위한 미국 테일러·평택 생산능력 확대를 중심으로 투자를 집행할 예정이다.

쉘 퍼스트는 클린룸을 선제적으로 건설하고, 향후 시장 수요와 연계한 탄력적인 설비 투자로 안정적인 생산 능력을 확보해 수요에 적극 대응하는 것이다. 디스플레이는 중소형 플렉시블 생산능력 확대와 대형 QD-OLED 생산 효율성 제고에 투자를 집중할 계획이다.