삼성전자, 작년 시설투자 48.2조원…반도체만 43.6조원

직전 연년보다 10조원 가량 투자 늘려...반도체 부문에 집중

디지털경제입력 :2022/01/27 09:14    수정: 2022/01/27 09:16

삼성전자가 지난해(2021년) 시설투자에 48조2천억원을 쏟아부은 것으로 나타났다. 이는 직전 연도인 2020년 38조5천억원(반도체 32.9조, 디스플레이 3.9조)보다 약 10조원 정도 더 늘어난 금액이다. 코로나19 지속에도 불구하고 반도체 부문 투자에 집중한 것이다.

27일 삼성전자 4분기 실적 발표에 따르면 사업별 시설투자 규모는 반도체 43조6천억원, 디스플레이 2조6천억원 수준이다.

삼성전자 평택캠퍼스(사진=삼성전자)

메모리는 EUV 기반 15나노 D램, V6 낸드 등 첨단공정 수요 대응을 위한 평택·시안 증설과 공정 전환, 평택 P3 라인 인프라 투자 등을 중심으로 시설투자가 진행됐다. EUV를 포함한 차세대 기술 적용을 선제적으로 확대함에 따라 메모리 투자가 전년 대비 증가했다.

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파운드리는 평택 EUV 5나노 첨단공정 증설 등을 중심으로 투자가 진행됐다.

디스플레이는 중소형 모듈과 QD 디스플레이에 중점을 두고 투자했다.