삼성전자, 3분기 시설투자 10.2조원…반도체에만 9.1조원

올해 누적 시설투자액 33조5천억원

삼성전자 반도체공장 평택2라인

삼성전자가 3분기 시설투자에 10조2천억원을 집행했다고 28일 밝혔다. 이 중 반도체에만 9조1천억원을 투자하며, 약 90%를 집중했다. 디스플레이는 7천억원 수준이다.

3분기 누계로는 33조5천억원이 집행됐으며, 반도체 30조원, 디스플레이 2조1천억원 수준이다.

사업별로 보면, 메모리는 2022년 수요 증가 대응과 DDR5(Double Data Rate 5) 등 차세대 제품 준비를 위한 평택·시안 첨단공정 증설, 공정 전환에 주력했다. 또 미래 수요 대응을 위한 평택 P3 라인 인프라 투자도 진행했다.

파운드리는 평택 극자외선(EUV) 첨단공정 증설 투자 등을 중심으로 집행됐다.

디스플레이는 QD 디스플레이 생산능력(CAPA) 확대, 중소형 모듈 투자를 통한 신규 기술 전환 가속화에 중점을 두고 투자했다.

삼성전자는 "시황과 연계된 탄력적인 투자 집행 기조를 유지하고 있으며, 부품 수급 이슈 등 불확실성이 높아진 상황을 고려하고 있다"며 "아직 4분기 투자는 검토하고 있는 중"이라고 전했다.

삼성전자는 이번 실적 발표에서는 2021년 연간 시설투자 전망치를 제시하지 않았다.