삼성전자, 3Q 시설투자 8.4조…반도체에 6.6조 투입

"반도체 수요 증가 대응에 전년 대비 증가…EUV 5나노 영향도"

삼성전자는 올 3분기 시설투자 규모가 8조4천억원이라고 밝혔다. 사업별로는 반도체 6조6천억원과 디스플레이 1조5천억원 수준이다.

3분기 누계로는 25조5천억원이 집행됐고, 반도체 21조3천억원, 디스플레이 3조1천억원 수준이다.

올해 전체 시설투자는 약 35.2조원으로 전년 대비 증가가 예상되며, 사업별로는 반도체 28조9천억원, 디스플레이 4조3천억원 수준이다.

삼성전자 파운드리 공장이 위치평택 캠퍼스 항공 사진. (사진=삼성전자)

사업별로 보면 메모리의 경우, 향후 수요 증가 대응 등을 위한 첨단공정 전환과 증설 투자로 전년 대비 증가가 예상되고, 파운드리도 극자외선(EUV) 5나노 공정 등 증설 투자로 증가가 예상된다.

디스플레이는 퀀텀닷(QD) 디스플레이 생산능력(캐파)과 중소형 신기술 공정 중심으로 투자가 증가할 것으로 예상된다.

삼성전자 관계자는 "이 수치는 현재 시점에서의 전망치로서 추후 시장 상황과 설비 입고 시점 등 변수에 따라 변동가능성이 있다"고 말했다.