삼성전자가 올해 전체 시설투자에 약 46조2천억 원을 투입한다.
삼성전자는 올해 시설투자 비용이 지난해 25조5천억원 대비 대폭 증가한 약 46조2천억원에 이를 것으로 예상된다고 31일 밝혔다.
사업별 투자비는 반도체 29조5천억 원, 디스플레이 14조1천억 원 수준이다.
지난 3분기엔 시설투자비가 10조4천억원에 달했다. 이 중 반도체에 7조2천억원, 디스플레이에 2조7천억원 가량이 투자된 것으로 나타났다.
3분기 누계로는 32조9천억원이 이미 집행됐다.
메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있다. 또 파운드리 역시 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다는 게 삼성전자의 설명이다.
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특히 디스플레이의 경우, 삼성전자는 플렉서블 유기발광다이오드(OLED) 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자를 진행 중이다.
한편, 4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 집중될 예정인 것으로 알려졌다. 이는 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다.
