삼성전자는 2021년 정기 임원인사를 단행하고 윤보언 반도체연구소 공정개발실 펠로우를 선임했다고 4일 밝혔다.
삼성전자는 "차세대 반도체 CMP 공정, 설비, 소재 등 세계적인 기술 권위자로 CMP 관련 난제 해결을 통해 반도체 수세대 제품 경쟁력 제고에 기여했다"고 선임 사유를 밝혔다.
다음은 윤보언 삼성전자 반도체연구소 공정개발실 펠로우의 약력이다.
◇ 윤보언 반도체연구소 공정개발실 펠로우
- 1965년 출생 (55세)
- 1998년 서울대학교 화학과 학사
- 1990년 서울대학교 화학과 석사
- 1996년 서울대학교 화학과 박사
- 1996.02-2004.02 반도체연구소 공정개발팀
- 2004.02-2009.01 메모리연구소 공정개발팀
- 2009.02-2009.12 반도체연구소 공정개발팀
- 2020.01-2013.12 반도체연구소 공정개발3P/J
- 2013.12-2014.12 반도체연구소 공정개발2P/J
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- 2020.01-현재 반도체연구소 공정개발실