인텔, 데이터센터 냉각 솔루션 연구 위해 700만 달러 투자

내년부터 미국 오레곤 주에 전담 연구시설 가동...개방형 냉각 솔루션도 공개

인텔이 19일(미국 현지시간) 친환경 데이터센터 냉각 솔루션 연구를 위해 700만 달러(약 88억 8천만원) 규모 투자에 나선다고 밝혔다.

인텔은 미국 오레곤 주 힐스보로의 존스 팜 생산시설 안에 20만 평방피트(약 1만8천581 제곱미터) 규모 연구 시설을 신규 건립하기로 했다. 건립에는 총 700만 달러가 들며 올해부터 착공해 내년에 완공될 예정이다.

인텔이 미국 오레곤 주에 데이터센터 냉각 시설을 연구할 시설 건립을 시작했다. (사진=인텔)

이 연구 시설에서는 액침형 냉각(부품을 액체에 담가 냉각), 효율적인 물 사용, 열 재활용 등을 중점적으로 연구한다. 또 인텔 제온, 옵테인, Xe 아키텍처, 하바나 가속기 등 데이터센터용으로 개발된 제품을 검증한다.

인텔은 또 개방형 지적 재산권을 활용한 액침형 수랭식 솔루션과 레퍼런스 디자인도 공개했다. 이를 활용핸 검증형 모델은 대만에서 먼저 가동되며 생태계 전반으로 확대하는 것이 목표다.

개방형 지적재산권을 활용한 액침형 수랭식 솔루션 시제품. (사진=인텔)

인텔은 "현재 데이터센터는 전세계 전기 생산량의 1%, 탄소 배출량의 0.3%를 차지하고 있다. 액침형 냉각과 에너지 재사용은 데이터센터의 탄소 배출량을 기존 대비 45%까지 줄일 수 있다"고 설명했다.