삼성전자가 7나노 로직 공정은 당초 계획대로 내후년에 양산체제에 들어간다고 27일 밝혔다.
허국 삼성전자 시스템LSI사업부 상무는 27일 1분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 "7나노 로직 개발 계획은 지난 분기 발표한 것과 마찬가지로 2018년 초도생산을 시작하고, 본격 양산은 2019년으로 예상하고 있다"면서 "다만 양산 시점은 고객 요청과 시장 상황에 따라 달라질 수 있다"고 말했다.
허 상무는 "7나노 공정은 기존의 말씀드린대로 EUV 장점을 최대한 활용해 공정 경쟁력을 극대화 시킬 예정"이라고 덧붙였다.
또 그는 "14나노에서 10나노, 7나노로 미세화를 추진할 때 개발 난이도와 투자비가 크게 증가하기 때문에 일부 대형 고객을 제외한 나머지 고객들은 투자에 어려움을 겪을 수 있다"면서 "선두 공정이 나온 후 1년 후 파생 공정을 제공함으로써 고객들의 효율적인 케펙스 운영과 투자가 가능하다"고 설명했다.
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